注明：本型號為磁控，與進口的差不多，適合客戶放大倍數高，

此款TZZN-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器性能穩(wěn)定，操作簡單方便。采用磁控冷態(tài)濺射，基本不升溫，限度保護樣品。

主要特點:

2 顯示操作面為30°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗，方便觀察操作；

2 真空泵連接管路為金屬波紋管，美觀耐用；

2 微調閥調節(jié)靈敏準確，帶有刻度標識；

2 真空泵抽速快，噪音低，適合實驗室使用；

2 控制電路為控制板，工作穩(wěn)定可靠；

2 顯示控制操作部分布局合理，位于同側，使用方便；

2 磁控冷態(tài)濺射，基本不升溫，限度保護樣品；

技術參數:

1.樣品室空間：直徑120mm×高110mm

2. Pt靶為標配，靶材尺寸：φ50mm×0.1mm

3.獨立真空控制電路設計，實現真空度和濺射電流，安全互鎖，可調電流40mA；

4.侵入式磁控低溫離子源，可快速更換靶材，環(huán)繞暗區(qū)護罩；

5.使用獨立計時控制器，精準計時，可調設置范圍:1-500秒，連續(xù)可調

6.自動真空泄氣功能，自動排氣，可通過數字定時器進行控制

7.進口真空泵，抽速8.5m3/h，噪聲不大于48dB,可置于抗震臺上，全金屬集成耦合系統(tǒng)

8.微型真空氣閥：高精度微量流量閥，精度±0.1Pa